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1200度200管徑管式爐（標(biāo)準(zhǔn)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)）

1200℃管式爐Φ200(標(biāo)準(zhǔn)/雙溫區(qū)/三溫區(qū))的詳細(xì)介紹設(shè)備名稱(chēng)200管徑管式爐（開(kāi)啟式）型號(hào)AFD1200-200AFD1200-200IIAFD1200-200III基本參數(shù)電源電壓AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（寬*深*高）1200*640*820mm1350*640*820mm1650*640*820mm設(shè)備重量115Kg135Kg160Kg管式爐加熱系統(tǒng)加熱功率6Kw8Kw12Kw加熱區(qū)440m...

箱式氣氛爐在行業(yè)中的應(yīng)用及主要部分

箱式氣氛爐在行業(yè)中的應(yīng)用“箱式氣氛爐”別名“氣氛爐、管式爐、電阻爐、井式爐、氫氣爐、鐘罩爐、鉬絲爐、升降爐等等”是種實(shí)驗(yàn)設(shè)備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下，氣氛熱處理的加熱設(shè)備鉬絲爐、箱式氣氛爐、井式氣氛爐、真空管式爐用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。箱式氣氛爐適用于工礦企業(yè)、大專(zhuān)院校、科研院所及實(shí)驗(yàn)室作真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品用。可供化學(xué)分析、物理測(cè)定以及金屬、陶瓷的燒結(jié)和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒...

管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)

管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)CVD(ChemicalVaporDeposition）原理CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積），指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過(guò)CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強(qiáng)力鋼的彎曲，拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn)淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻...

如何選擇箱式高溫爐的變壓器？

箱式高溫爐在升溫進(jìn)程中發(fā)熱體電阻的改造太大，所以須要在箱式爐和電力網(wǎng)之間設(shè)備臺(tái)電阻爐變壓器，以降低和調(diào)度電爐的輸入電壓。電弧爐變壓器給用于鋼鐵練習(xí)的電弧爐供電的變壓器。箱式高溫爐的溫度操控，即是根據(jù)實(shí)踐溫度與設(shè)定溫度的誤差，改動(dòng)爐子的加熱功率，使?fàn)t子溫度在設(shè)定溫度規(guī)模以?xún)?nèi)，滿(mǎn)意加熱技術(shù)請(qǐng)求。加熱功率的巨細(xì)決議了爐子溫度的大小和升溫速度的快慢，加熱功率的穩(wěn)定性決議了電阻爐溫度的穩(wěn)定性。改動(dòng)加熱功率的辦法許多，多見(jiàn)的有位式、晶閘管調(diào)節(jié)器和電爐變壓器操控方法等，選用何種加熱方法由爐...

1700℃大型智能體馬弗爐

1700℃大型智能體馬弗爐產(chǎn)品概述：奧菲達(dá)儀器大型智能體馬弗爐溫控系統(tǒng)與爐體集成在體，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀大方，操作方便，使用穩(wěn)定可靠；爐膛采用新型陶瓷纖維材料，升溫快、保溫好、輕質(zhì)節(jié)能；產(chǎn)品采用智能控制，以微處理器作為控制中心，PID控制算法和自適應(yīng)控制技術(shù)，能夠智能控制預(yù)加熱溫度。液晶顯示屏，全中文顯示數(shù)據(jù)和進(jìn)程。觸摸鍵盤(pán)輸入，具有自動(dòng)程序和自選程序，用戶(hù)可根據(jù)需要分別設(shè)定30段時(shí)間控制進(jìn)程。爐體采用碳鋼或不銹鋼制造，表面采用靜電噴涂且雙層爐體結(jié)構(gòu)，與傳統(tǒng)馬弗爐相比，節(jié)能節(jié)...